SK海力士員工涉向華為洩露技術資料被捕

韓聯社報道，韓國晶片巨頭SK海力士一名中國籍女員工因涉嫌向中國電訊設備製造商華為洩露有關降低晶片不良率的核心技術資料被捕，目前正在接受審判。京畿南部警察廳產業技術安全偵查隊表示，該女員工涉嫌違反《防止產業技術洩漏及保護法》，上月底被捕送檢，現已被檢方起訴，正接受地方法院審判。該女員工於2013年入職SK海力士，之後一直在負責分析晶片不良的部門工作，2020年至2022年在中國分公司擔任組長，負責企業交易客户洽談。 2022年6月，她返韓後立即跳槽到華為。據報，她離職前曾用3000多張A4紙列印出涉及核心半導體工序問題解決方案的資料。SK海力士禁止員工使用USB設備，並對打印內容、打印人、文件用途等訊息進行詳細紀錄和管理。涉案員工雖留下打印文件的紀錄，但其用途未被SK海力士掌握。警方認為，她將打列的紙張分批轉移至外部，惟她否認指控。警方其後展開調查，於4月底在她入境南韓後，在機場作出拘捕行動。